在 10nm 以下的半导体节点中，颗粒并不是优选的敌人。 空气分子污染 (AMC) ——由酸、碱和有机物组成的不可见气体——已成为产量损失的主要原因。
对于工艺工程师来说，挑战是双重的：防止外部污染物进入无尘室并确保过滤设备本身不会成为污染源。
在 得胜鑫 ，我们采用严格的 双级过滤策略来解决AMC问题，将更好的化学吸附与零释气材料相结合。本文详细介绍了我们如何中和 MA、MB、MC 和 MD 污染物以保护您的关键工艺区域。
AMC 根据 SEMI F21-1102 标准分为四个主要系列。我们的过滤系统专门针对以下各项而设计：
MA（分子酸）： 例如氢氟酸、SOx、NOx。可能导致金属互连腐蚀。
MB（分子碱）： 例如氨、胺。的优选方案大敌人 光刻，导致光刻胶中出现 T-可靠ping 缺陷。
MC（分子可冷凝物）： 例如有机物、DOP。会沉积在透镜和晶圆表面，导致雾霾。
MD（分子掺杂剂）： 例如硼、磷。可能会无意中改变硅的电性能。
标准 HEPA 过滤器 捕获颗粒，但气体直接穿过它们。为了 s可靠 AMC，我们集成了 配备专用介质的 化学 风机 过滤器 单元（化学 FFU） ：
离子交换 材料： 专门配制用于通过化学吸附中和酸 (MA) 和碱 (MB)。这对于至关重要。 光刻 和 蚀刻 台
活性炭（浸渍）： 使用特定浸渍剂进行优化，针对挥发性有机物 (VOC) 和冷凝物 (MC)。
结果： 我们的化学品过滤器对目标气体的去除效率达到了 99.9% ，确保了晶圆的原始分子环境。
这是现代晶圆厂更关键的升级。传统的 FFU 使用 玻璃纤维（硼硅酸盐） 过滤器。玻璃纤维虽然对颗粒有效，但天然含有 硼。在风量下，微量的硼可以从过滤器介质中“脱气”（释放），本身成为污染物（MD）。
得胜鑫 解决方案：PTFE 材料
我们将 e-PTFE（膨体聚四氟乙烯） 膜 过滤器 用于所有关键的半导体应用。
零硼风险： PTFE 是一种化学惰性且不含硼的合成材料。
卓越的耐受性： PTFE 不受酸/碱腐蚀的影响，使其能够在恶劣的化学品工况（如湿工作台区域）中耐用。
更低的压降： PTFE 提供更好的风量效率，降低工厂的能耗。
| 特征 | 传统玻璃纤维HEPA/ULPA | DSX PTFE（特氟龙） ULPA |
| 初 材料 | 硼硅酸盐超细纤维 | 膨体聚四氟乙烯膜 |
| 硼放气 | 高风险（MD 来源） | 零（无硼） |
| 耐酸/耐碱 | 差（随着时间的推移而退化） | 优秀（化学惰性） |
| 机械强度 | 易碎（损坏风险） | 高（坚固的膜） |
| 推荐区 | 一般洁净室/走廊 | 晶圆厂/光刻/工艺工具 |
控制 AMC 不是可有可无的——它是良率保证的要求。通过结合 化学过滤 来去除进入的气体和 PTFE 材料 来消除 过滤器 产生的污染物，FFU风机 为您的晶圆提供全面的防护。
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