在光刻中，即使是看不见的微振动也会导致图案模糊和良率损失。本技术指南解释了 FFU风机 如何实现低于 0.5 毫米/秒 (RMS) 的振动水平。我们探索我们的工程方法，包括动态平衡叶轮、减震 电机 安装座以及专为 ISO 1 级光刻区域量身定制的刚性结构设计。
空气分子污染 (AMC)——分类为酸 (MA)、碱 (MB)、可冷凝物 (MC) 和掺杂剂 (MD)——对 10 纳米以下半导体工艺构成严重威胁。本技术指南详细介绍了如何使用 双级过滤策略。我们分析从传统玻璃纤维到 低释气 PTFE 介质 防止硼污染并解释其作用 离子交换化学品 过滤器 保护敏感的光刻和蚀刻区域。”
虽然标准 FFU 管理一般空气，但设备 风机 过滤器 单元 (EFU) 是污染控制的特种部队。本指南详细介绍了工程差异，重点介绍 EFU 如何实现敏感半导体工具的零排气和微振动控制
确定更换无尘室中的HEPA或ULPA 过滤器的更好的时间不应基于日历时间表，而应基于使用压差（以帕斯卡，Pa为单位测量）的基于条件的监测。过早更换过滤器会浪费预算，而更换太晚则会损害风量速度和产量。标准程序包括记录当新的过滤器以适当的风量（例如0.45 m/s）安装时的“初始阻力”（压降）。通常，当压差达到初始 阻力 的两倍 (2x) 时，或者如果 风机 过滤器 装置 (FFU) 即使在更大功率下也无法保持所需的 风量 速度，则应立即更换 过滤器。 得胜鑫 净化设备有限公司作为全产业链制造商，确保阻力初始规格一致，使预测性维护准确。
空气分子污染 (AMC) 对 更好的 晶圆生产节点（亚 10 纳米）的产量构成严重威胁，导致金属腐蚀（来自酸）和光刻胶“T-可靠ping”（来自碱/胺）等缺陷。有效的控制需要将专门的化学品过滤器整合到上限风机 过滤器单位（FFU）中。本指南按目标污染物对过滤器进行分类：MA系列用于酸（SOx、HCl），MB系列用于碱/胺（NH3，对光刻至关重要），MV系列用于有机物/VOC。一个关键的挑战是化学物质过滤器会显着增加阻力（静压）。 得胜鑫 净化设备有限公司利用20多年的全产业链经验，制造了自己的高扭矩EC/AC电机来解决这个问题。 得胜鑫工程师专门设计了高静压FFU，即使在装载有致密的化学过滤介质时也能保持所需的风量速度。
