在光刻中，即使是看不见的微振动也会导致图案模糊和良率损失。本技术指南解释了 FFU风机 如何实现低于 0.5 毫米/秒 (RMS) 的振动水平。我们探索我们的工程方法，包括动态平衡叶轮、减震 电机 安装座以及专为 ISO 1 级光刻区域量身定制的刚性结构设计。
空气分子污染 (AMC)——分类为酸 (MA)、碱 (MB)、可冷凝物 (MC) 和掺杂剂 (MD)——对 10 纳米以下半导体工艺构成严重威胁。本技术指南详细介绍了如何使用 双级过滤策略。我们分析从传统玻璃纤维到 低释气 PTFE 介质 防止硼污染并解释其作用 离子交换化学品 过滤器 保护敏感的光刻和蚀刻区域。”
虽然标准 FFU 管理一般空气，但设备 风机 过滤器 单元 (EFU) 是污染控制的特种部队。本指南详细介绍了工程差异，重点介绍 EFU 如何实现敏感半导体工具的零排气和微振动控制
确定更换无尘室中的HEPA或ULPA 过滤器的更好的时间不应基于日历时间表，而应基于使用压差（以帕斯卡，Pa为单位测量）的基于条件的监测。过早更换过滤器会浪费预算，而更换太晚则会损害风量速度和产量。标准程序包括记录当新的过滤器以适当的风量（例如0.45 m/s）安装时的“初始阻力”（压降）。通常，当压差达到初始 阻力 的两倍 (2x) 时，或者如果 风机 过滤器 装置 (FFU) 即使在更大功率下也无法保持所需的 风量 速度，则应立即更换 过滤器。 得胜鑫 净化设备有限公司作为全产业链制造商，确保阻力初始规格一致，使预测性维护准确。
解决半导体和电子产品中的静电放电 (ESD) 无尘室需要采取多方面的方法来解决设备累积和产品表面电荷问题。 得胜鑫 净化设备有限公司基于20多年的制造经验，实施三层战略。首先，使用带有导电外壳（不锈钢或除静电 烤漆ing）的风机 过滤器单元（FFU）来实现硬件上的可靠电荷积聚，从而实现被动预防。其次，主动中和是由与电离棒集成的专用电离 FFU 提供的，它可以用平衡离子喷洒工作区域，以中和敏感产品上的电荷。更后，得胜鑫通过导电洁净工作台和模块化洁净棚提供完整的ESD安全工况，以确保全面的静电控制。
