在光刻中，即使是看不见的微振动也会导致图案模糊和良率损失。本技术指南解释了 FFU风机 如何实现低于 0.5 毫米/秒 (RMS) 的振动水平。我们探索我们的工程方法，包括动态平衡叶轮、减震 电机 安装座以及专为 ISO 1 级光刻区域量身定制的刚性结构设计。

空气分子污染 (AMC)——分类为酸 (MA)、碱 (MB)、可冷凝物 (MC) 和掺杂剂 (MD)——对 10 纳米以下半导体工艺构成严重威胁。本技术指南详细介绍了如何使用 双级过滤策略。我们分析从传统玻璃纤维到 低释气 PTFE 介质 防止硼污染并解释其作用 离子交换化学品 过滤器 保护敏感的光刻和蚀刻区域。”

空气分子污染 (AMC) 对 更好的 晶圆生产节点（亚 10 纳米）的产量构成严重威胁，导致金属腐蚀（来自酸）和光刻胶“T-可靠ping”（来自碱/胺）等缺陷。有效的控制需要将专门的化学品过滤器整合到上限风机 过滤器单位（FFU）中。本指南按目标污染物对过滤器进行分类：MA系列用于酸（SOx、HCl），MB系列用于碱/胺（NH3，对光刻至关重要），MV系列用于有机物/VOC。一个关键的挑战是化学物质过滤器会显着增加阻力（静压）。 得胜鑫 净化设备有限公司利用20多年的全产业链经验，制造了自己的高扭矩EC/AC电机来解决这个问题。 得胜鑫工程师专门设计了高静压FFU，即使在装载有致密的化学过滤介质时也能保持所需的风量速度。

此分析比较了大型半导体工厂中 AC 与 EC 风机 过滤器 单元 (FFU) 的 5 年运营成本。对于连续运行 5,000 个 FFU 的代表性设施，从传统 AC 电机 切换到现代高效 EC (直流) 技术可节省大量成本。根据保守估计，每单位可节省 50 瓦电力，电力成本为 0.10 美元/千瓦时，仅直接电力成本一项设施每年即可节省超过 219,000 美元，五年内总计将超过 100 万美元。由于 EC 电机 的热量排放较低，因此减少了 HVAC 冷却负载，从而实现了额外的显着节省。 得胜鑫 净化设备有限公司通过其“全产业链”优势将这一投资回报率更大化，专门为其FFU制造自己的高性能EC 电机，以具有竞争力的前期成本确保可靠层效率。

解决半导体和电子产品中的静电放电 (ESD) 无尘室需要采取多方面的方法来解决设备累积和产品表面电荷问题。 得胜鑫 净化设备有限公司基于20多年的制造经验，实施三层战略。首先，使用带有导电外壳（不锈钢或除静电 烤漆ing）的风机 过滤器单元（FFU）来实现硬件上的可靠电荷积聚，从而实现被动预防。其次，主动中和是由与电离棒集成的专用电离 FFU 提供的，它可以用平衡离子喷洒工作区域，以中和敏感产品上的电荷。更后，得胜鑫通过导电洁净工作台和模块化洁净棚提供完整的ESD安全工况，以确保全面的静电控制。