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hepa/ulpa 过滤器

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  • 在半导体制造中,即使是0.1μm颗粒也可以破坏晶圆的完整性。随着过程收缩至3NM,得胜鑫 FFU作为ISO 1 无尘室的关键解决方案出现。本文探讨了其三重 - 过滤器技术在0.12μm颗粒上达到99.9995%的效率,CFD优化的层风量,具有±5%均匀性,AI驱动±0.05°C温度控制。案例研究表明,12英寸Fabs中有98.4%的光孔涂料产率和40%的缺陷降低。了解为什么全局晶圆厂采用得胜鑫 FFU以应对污染风险,同时将能源成本降低30%。

    2025.03.10

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在半导体制造中,即使是0.1μm颗粒也可以破坏晶圆的完整性。随着过程收缩至3NM,得胜鑫 FFU作为ISO 1 无尘室的关键解决方案出现。本文探讨了其三重 - 过滤器技术在0.12μm颗粒上达到99.9995%的效率,CFD优化的层风量,具有±5%均匀性,AI驱动±0.05°C温度控制。案例研究表明,12英寸Fabs中有98.4%的光孔涂料产率和40%的缺陷降低。了解为什么全局晶圆厂采用得胜鑫 FFU以应对污染风险,同时将能源成本降低30%。

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