在半导体制造中，即使是 0.1μm 的颗粒也会破坏晶圆的完整性。随着工艺缩小至 3nm，得胜鑫 FFU 成为 ISO 1 无尘室 的关键解决方案。本文探讨了其三重过滤器技术，对 0.12μm 颗粒实现了 99.9995% 的效率，CFD 优化的层流风量具有 ±5% 的均匀性，以及人工智能驱动的 ±0.05°C 温度控制。案例研究表明，12 英寸晶圆厂的光刻胶涂层良率达到 98.4%，缺陷减少了 40%。了解为什么全球晶圆厂采用得胜鑫FFU 来应对污染风险，同时将能源成本降低 30%。