空气分子污染 (AMC) 对 更好的 晶圆生产节点（亚 10 纳米）的产量构成严重威胁，导致金属腐蚀（来自酸）和光刻胶“T-可靠ping”（来自碱/胺）等缺陷。有效的控制需要将专门的化学品过滤器整合到上限风机 过滤器单位（FFU）中。本指南按目标污染物对过滤器进行分类：MA系列用于酸（SOx、HCl），MB系列用于碱/胺（NH3，对光刻至关重要），MV系列用于有机物/VOC。一个关键的挑战是化学物质过滤器会显着增加阻力（静压）。 得胜鑫 净化设备有限公司利用20多年的全产业链经验，制造了自己的高扭矩EC/AC电机来解决这个问题。 得胜鑫工程师专门设计了高静压FFU，即使在装载有致密的化学过滤介质时也能保持所需的风量速度。