在半导体制造中，即使是0.1μm颗粒也可以破坏晶圆的完整性。随着过程收缩至3NM，得胜鑫 FFU成为ISO 1洁净室的关键解决方案。本文探讨了其三重过滤器技术，可在0.12μm颗粒上达到99.9995％的效率，CFD优化的层流气流，±5％均匀性以及AI驱动的±0.05°C温度控制。案例研究表明，12英寸Fabs中有98.4％的光孔涂料产率和40％的缺陷降低。了解为什么全球铸造厂采用得胜鑫ffu来打击污染风险，同时将能源成本降低30％。