在半导体制造中，即使是0.1μm颗粒也可以破坏晶圆的完整性。随着过程收缩至3NM，得胜鑫 FFU成为ISO 1洁净室的关键解决方案。本文探讨了其三重过滤器技术，可在0.12μm颗粒上达到99.9995％的效率，CFD优化的层流气流，±5％均匀性以及AI驱动的±0.05°C温度控制。案例研究表明，12英寸Fabs中有98.4％的光孔涂料产率和40％的缺陷降低。了解为什么全球铸造厂采用得胜鑫ffu来打击污染风险，同时将能源成本降低30％。
半导体制造需要严格的洁净度，因为它的精度很高。洁净室技术领导者得胜鑫为FFU风机过滤器提供了优化HEPA技术，以满足这些需求。 FFU有效地消除了颗粒和有害气体，确保空气洁净度符合国际标准。还提供基于生产线需求的定制解决方案。 FFU具有高效率，稳定性和智能管理系统，可提高生产效率和产品质量。 得胜鑫提供全面的专业服务，以支持半导体企业，从而促进其升级和转型。
本文为选择理想提供了全面的指导 FFU（风机过滤器单元） 用于半导体制造设施。它涵盖了至关重要的因素，例如空气净化要求，大小和形状兼容性，气流和静态压力需求，风机类型，控制方法，功率规格，噪声水平以及可靠性和可维护性。借助专家见解和量身定制的建议，本文可确保您为设施的空气净化需求做出明智的决定。
